Dépôt de couches minces de TiO2 SiO2 par association plasma et sol-gel : impact du procédé de dépôt et de la composition sur les propriétés, application à l'optique intégrée
Ce travail décrit une approche hybride couplant le procédé de dépôt chimique en phase vapeur assistée par plasma (PECVD) avec l injection d une solution colloïdale fabriquée au laboratoire pour la synthèse de films inorganiques nanocomposites (NC) incluant des nanoparticules de TiO2 (NPs) dans une m...
Auteurs principaux : | , , , , , , , |
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Collectivités auteurs : | , , |
Format : | Thèse ou mémoire |
Langue : | français |
Titre complet : | Dépôt de couches minces de TiO2 SiO2 par association plasma et sol-gel : impact du procédé de dépôt et de la composition sur les propriétés, application à l'optique intégrée / Maria Mitronika; sous la direction de Mireille Richard-Plouet et de Antoine Goullet |
Publié : |
2020 |
Accès en ligne : |
Accès Nantes Université
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Note sur l'URL : | Accès au texte intégral |
Note de thèse : | Thèse de doctorat : Physique des matériaux : Nantes : 2020 |
Sujets : |