Dépôt de couches minces de TiO2 SiO2 par association plasma et sol-gel : impact du procédé de dépôt et de la composition sur les propriétés, application à l'optique intégrée

Ce travail décrit une approche hybride couplant le procédé de dépôt chimique en phase vapeur assistée par plasma (PECVD) avec l injection d une solution colloïdale fabriquée au laboratoire pour la synthèse de films inorganiques nanocomposites (NC) incluant des nanoparticules de TiO2 (NPs) dans une m...

Description complète

Détails bibliographiques
Auteurs principaux : Mitronika Maria (Auteur), Richard-Plouet Mireille (Directeur de thèse), Goullet Antoine (Directeur de thèse), Clergereaux Richard (Président du jury de soutenance), Tixier Christelle (Rapporteur de la thèse, Membre du jury), Hassouni Khaled (Rapporteur de la thèse, Membre du jury), Stafford Luc (Membre du jury), Granier Agnès (Membre du jury)
Collectivités auteurs : Université de Nantes 1962-2021 (Organisme de soutenance), École doctorale Matière, Molécules Matériaux et Géosciences Le Mans (Ecole doctorale associée à la thèse), Institut des Matériaux Jean Rouxel Nantes (Laboratoire associé à la thèse)
Format : Thèse ou mémoire
Langue : français
Titre complet : Dépôt de couches minces de TiO2 SiO2 par association plasma et sol-gel : impact du procédé de dépôt et de la composition sur les propriétés, application à l'optique intégrée / Maria Mitronika; sous la direction de Mireille Richard-Plouet et de Antoine Goullet
Publié : 2020
Accès en ligne : Accès Nantes Université
Note sur l'URL : Accès au texte intégral
Note de thèse : Thèse de doctorat : Physique des matériaux : Nantes : 2020
Sujets :