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Élaboration de couches minces diélectriques d oxydes de titane et de silicium à forte permittivité et indice optique par procédé plasma PECVD basse pression
par
Elisabeth Stéphane
,
Granier Agnès
,
Guilloux-Viry Maryline
,
Bousquet Angélique
Stafford
Luc
Supiot Philippe
Goullet Antoine
Université de Nantes 2015
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Dépôt de couches minces de TiO2 SiO2 par association plasma et sol-gel : impact du procédé de dépôt et de la composition sur les propriétés, application à l'optique intégrée...
par
Mitronika Maria
,
Richard-Plouet Mireille
,
Goullet Antoine
,
Clergereaux Richard
,
Tixier Christelle
,
Hassouni Khaled
,
Stafford
Luc
Granier Agnès
2020
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