Développement de techniques de patterning avancées pour les filières CMOS-sub 10nm

Développement de techniques de patterning avancées pour les filières CMOS-sub 10nm

Pour les technologies CMOS sub-10 nm, l industrie du semi-conducteur est confrontée aux limites de résolution de la lithographie conventionnelle. Différentes techniques alternatives ont été proposées afin de permettre l obtention de motifs avec des dimensions de l ordre de 20 nm. Dans cette thèse, n...

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Main Authors : Sarrazin Aurélien (Auteur), Cardinaud Christophe (Directeur de thèse), Possémé Nicolas (Directeur de thèse, Membre du jury), Pimenta-barros Patricia (Directeur de thèse, Membre du jury), Vallée Christophe (Président du jury de soutenance), Dussart Rémi (Rapporteur de la thèse), Le Brizoual Laurent (Rapporteur de la thèse), Chevolleau Thierry (Membre du jury), Cayrefourcq Ian (Membre du jury)
Corporate Authors : Université de Nantes 1962-2021 (Organisme de soutenance), École doctorale Matériaux, Matières, Molécules en Pays de la Loire (3MPL) Le Mans 2008-2021 (Ecole doctorale associée à la thèse), Université Bretagne Loire 2016-2019 (Autre partenaire associé à la thèse), Institut des Matériaux Jean Rouxel Nantes (Laboratoire associé à la thèse)
Format : Thesis
Language : français
Title statement : Développement de techniques de patterning avancées pour les filières CMOS-sub 10nm / Aurélien Sarrazin; sous la direction de Christophe Cardinaud et de Nicolas Possémé et de Patricia Pimenta-barros
Published : 2017
Online Access : Via Nantes Université network
Online Access note : Accès au texte intégral
Note de thèse : Thèse de doctorat : Sciences et technologies de l'information et de la communication : Nantes : 2017
Subjects :
Gravure par plasma
Microélectronique
Copolymères
Spacer patterning
Thèses et écrits académiques
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