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ETUDE DES MECANISMES DE GRAVURE DU SI A BASSE TEMPERATURE PAR UN FAISCEAU PLASMA DE SF#6 EXTRAIT D'UNE SOURCE D'IONS A DECHARGE MICRO-ONDE
par
Chevolleau
Thierry
[s.n.] 1998
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Développement de techniques de patterning avancées pour les filières CMOS-sub 10nm
par
Sarrazin Aurélien
,
Cardinaud Christophe
,
Possémé Nicolas
,
Pimenta-barros Patricia
,
Vallée Christophe microélectronicien
,
Dussart Rémi
,
Le Brizoual Laurent
Chevolleau
Thierry
Cayrefourcq Ian
2017
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fabrication microelectronique/gravure plasma/silicium/soufre hexafluorure/compose binaire/basse temperature/source ion/decharge/hyperfrequence/effet temperature/analyse surface/spectrometrie rx/spectrometrie photoelectron/spectrometrie masse/sf6/f s/faisceau plasma
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