Développement de techniques de patterning avancées pour les filières CMOS-sub 10nm

Développement de techniques de patterning avancées pour les filières CMOS-sub 10nm

Pour les technologies CMOS sub-10 nm, l industrie du semi-conducteur est confrontée aux limites de résolution de la lithographie conventionnelle. Différentes techniques alternatives ont été proposées afin de permettre l obtention de motifs avec des dimensions de l ordre de 20 nm. Dans cette thèse, n...

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Auteurs principaux : Sarrazin Aurélien (Auteur), Cardinaud Christophe (Directeur de thèse), Possémé Nicolas (Directeur de thèse, Membre du jury), Pimenta-barros Patricia (Directeur de thèse, Membre du jury), Vallée Christophe microélectronicien (Président du jury de soutenance), Dussart Rémi (Rapporteur de la thèse), Le Brizoual Laurent (Rapporteur de la thèse), Chevolleau Thierry (Membre du jury), Cayrefourcq Ian (Membre du jury)
Collectivités auteurs : Université de Nantes 1962-2021 (Organisme de soutenance), École doctorale Matériaux, Matières, Molécules en Pays de la Loire (3MPL) Le Mans 2008-2021 (Ecole doctorale associée à la thèse), Université Bretagne Loire 2016-2019 (Autre partenaire associé à la thèse), Institut des Matériaux Jean Rouxel Nantes (Laboratoire associé à la thèse)
Format : Thèse ou mémoire
Langue : français
Titre complet : Développement de techniques de patterning avancées pour les filières CMOS-sub 10nm / Aurélien Sarrazin; sous la direction de Christophe Cardinaud et de Nicolas Possémé et de Patricia Pimenta-barros
Publié : 2017
Accès en ligne : Accès Nantes Université
Note sur l'URL : Accès au texte intégral
Note de thèse : Thèse de doctorat : Sciences et technologies de l'information et de la communication : Nantes : 2017
Sujets :
Gravure par plasma
Microélectronique
Copolymères
Spacer patterning
Thèses et écrits académiques

Internet

http://www.theses.fr/2017NANT4017/document