Élaboration de couches minces diélectriques d oxydes de titane et de silicium à forte permittivité et indice optique par procédé plasma PECVD basse pression

Élaboration de couches minces diélectriques d oxydes de titane et de silicium à forte permittivité et indice optique par procédé plasma PECVD basse pression

Cette thèse est consacrée à l élaboration de matériaux diélectriques à basse pression (0,4 mbar) et basse température (<100 °C), sur silicium, par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma RF (PECVD) à couplage inductif (ICP) en modes continu, puissance plasma pulsée et injection pulsée d...

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Auteurs principaux : Elisabeth Stéphane (Auteur), Granier Agnès (Directeur de thèse, Membre du jury), Guilloux-Viry Maryline (Président du jury de soutenance, Membre du jury), Bousquet Angélique (Rapporteur de la thèse, Membre du jury), Stafford Luc (Rapporteur de la thèse, Membre du jury), Supiot Philippe (Membre du jury), Goullet Antoine (Membre du jury)
Collectivités auteurs : Université Nantes-Angers-Le Mans - COMUE 2009-2015 (Organisme de soutenance), Université de Nantes 1962-2021 (Organisme de soutenance), Université de Nantes Faculté des sciences et des techniques (Organisme de soutenance), École doctorale Matériaux, Matières, Molécules en Pays de la Loire (3MPL) Le Mans 2008-2021 (Organisme de soutenance), Institut des Matériaux Jean Rouxel Nantes (Ecole doctorale associée à la thèse)
Format : Thèse ou mémoire
Langue : français
Titre complet : Élaboration de couches minces diélectriques d oxydes de titane et de silicium à forte permittivité et indice optique par procédé plasma PECVD basse pression / Stéphane Elisabeth; sous la direction de Agnès Granier ; co-encadrante de thèse Michèle Carette
Publié : Nantes : Université de Nantes , 2015
Accès en ligne : Accès Nantes Université
Note de thèse : Reproduction de : Thèse de doctorat : Sciences et matériaux Plasmas et couches minces : Nantes : 2015
Sujets :
Oxyde de titane
Couches diélectriques
Dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma
Thèses et écrits académiques
Documents associés : Reproduction de: Élaboration de couches minces diélectriques d oxydes de titane et de silicium à forte permittivité et indice optique par procédé plasma PECVD basse pression

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