NantilusÉlaboration de couches minces diélectriques d oxydes de titane et de silicium à forte permittivité et indice optique par procédé plasma PECVD basse pression
Cette thèse est consacrée à l élaboration de matériaux diélectriques à basse pression (0,4 mbar) et basse température (<100 °C), sur silicium, par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma RF (PECVD) à couplage inductif (ICP) en modes continu, puissance plasma pulsée et injection pulsée d...
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| Format : | Thèse ou mémoire |
| Langue : | français |
| Titre complet : | Élaboration de couches minces diélectriques d oxydes de titane et de silicium à forte permittivité et indice optique par procédé plasma PECVD basse pression / Stéphane Elisabeth; sous la direction de Agnès Granier ; co-encadrante de thèse Michèle Carette |
| Publié : |
2015 |
| Description matérielle : | 1 vol. (238 p.) |
| Note de thèse : | Thèse de doctorat : Sciences et matériaux Plasmas et couches minces : Nantes : 2015 |
| Disponibilité : | Publication autorisée par le jury |
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| Documents associés : | Reproduit comme:
Élaboration de couches minces diélectriques d oxydes de titane et de silicium à forte permittivité et indice optique par procédé plasma PECVD basse pression |
BU Sciences
| | Cote | Prêt | Statut |
|---|---|---|---|
| Magasin aérotherme | 2015 NANT 2073 | Exclu du prêt | disponible |