Applications of plasma processes to VLSI technology

Applications of plasma processes to VLSI technology

Détails bibliographiques
Auteurs principaux : Sugano Takuo (Directeur de publication), Kim Hyo-gun (Traducteur)
Format : Livre
Langue : anglais
japonais
Titre complet : Applications of plasma processes to VLSI technology / edited by Takuo Sugano; translated by Hyo-gun Kim
Publié : New York : Wiley , c1985
Description matérielle : xiv, 394 p.
Œuvre : Handōtai purazuma purosesu gijutsu. English
Sujets :
Métallurgie
Circuits intégrés à très grande échelle
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