ETUDE DES MECANISMES DE GRAVURE DU SI A BASSE TEMPERATURE PAR UN FAISCEAU PLASMA DE SF#6 EXTRAIT D'UNE SOURCE D'IONS A DECHARGE MICRO-ONDE

ETUDE DES MECANISMES DE GRAVURE DU SI A BASSE TEMPERATURE PAR UN FAISCEAU PLASMA DE SF#6 EXTRAIT D'UNE SOURCE D'IONS A DECHARGE MICRO-ONDE

CE MEMOIRE PRESENTE UNE ETUDE DES MECANISMES DE GRAVURE DU SILICIUM A BASSE TEMPERATURE PAR UN FAISCEAU PLASMA DE SF#6 EXTRAIT D'UNE SOURCE D'IONS A DECHARGE MICRO-ONDE. L'APPROCHE EXPERIMENTALE CHOISIE REPRODUIT L'INTERACTION D'UN PLASMA HAUTE DENSITE AVEC UNE SURFACE REFRO...

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Détails bibliographiques
Auteur principal : Chevolleau Thierry (Auteur)
Collectivité auteur : Université de Nantes 1962-2021 (Organisme de soutenance)
Autres auteurs : Cardinaud Christophe (Directeur de thèse)
Format : Thèse ou mémoire
Langue : français
Titre complet : ETUDE DES MECANISMES DE GRAVURE DU SI A BASSE TEMPERATURE PAR UN FAISCEAU PLASMA DE SF#6 EXTRAIT D'UNE SOURCE D'IONS A DECHARGE MICRO-ONDE / THIERRY CHEVOLLEAU; SOUS LA DIRECTION DE CHRISTOPHE CARDINAUD
Publié : [S.l.] : [s.n.] , 1998
Description matérielle : 226 P.
Note de thèse : Thèse de doctorat : Sciences appliquées : Nantes : 1998
Sujets :
SCIENCES APPLIQUEES : ELECTRONIQUE
FABRICATION MICROELECTRONIQUE/GRAVURE PLASMA/SILICIUM/SOUFRE HEXAFLUORURE/COMPOSE BINAIRE/BASSE TEMPERATURE/SOURCE ION/DECHARGE/HYPERFREQUENCE/EFFET TEMPERATURE/ANALYSE SURFACE/SPECTROMETRIE RX/SPECTROMETRIE PHOTOELECTRON/SPECTROMETRIE MASSE/SF6/F S/FAISCEAU PLASMA
MICROELECTRONIC FABRICATION/PLASMA ETCHING/SILICON/NC/SULFUR HEXAFLUORIDE/NK/BINARY COMPOUND/LOW TEMPERATURE/ION SOURCE/DISCHARGE/MICROWAVE/TEMPERATURE EFFECT/SURFACE ANALYSIS/X RAY SPECTROMETRY/PHOTOELECTRON SPECTROMETRY/MASS SPECTROMETRY

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