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Dépôt à basse température de couches minces d'oxyde de silicium élaborées en plasma oxygène / organosilicié dans un réacteur hélicon
by
Vallée
Christophe
,
Granier Agnès
1999
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Gravure du verre de chalcogénure GeSbSe en plasma fluoré ou à base de méthane
by
Meyer Thibaut
,
Cardinaud Christophe
,
Girard Aurélie chercheuse en électronique
,
Vallée
Christophe
microélectronicien
,
Nazabal Virginie
,
Carette Michèle
2019
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Développement de techniques de patterning avancées pour les filières CMOS-sub 10nm
by
Sarrazin Aurélien
,
Cardinaud Christophe
,
Possémé Nicolas
,
Pimenta-barros Patricia
,
Vallée
Christophe
microélectronicien
,
Dussart Rémi
,
Le Brizoual Laurent
Chevolleau Thierry
Cayrefourcq Ian
2017
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