Élaboration de couches minces diélectriques d oxydes de titane et de silicium à forte permittivité et indice optique par procédé plasma PECVD basse pression

Élaboration de couches minces diélectriques d oxydes de titane et de silicium à forte permittivité et indice optique par procédé plasma PECVD basse pression

Cette thèse est consacrée à l élaboration de matériaux diélectriques à basse pression (0,4 mbar) et basse température (<100 °C), sur silicium, par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma RF (PECVD) à couplage inductif (ICP) en modes continu, puissance plasma pulsée et injection pulsée d...

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Main Author : Elisabeth Stéphane (Auteur)
Corporate Authors : Université Nantes-Angers-Le Mans - COMUE 2009-2015 (Organisme de soutenance), Université de Nantes 1962-2021 (Organisme de soutenance), Université de Nantes Faculté des sciences et des techniques (Autre partenaire associé à la thèse), École doctorale Matériaux, Matières, Molécules en Pays de la Loire (3MPL) Le Mans 2008-2021 (Ecole doctorale associée à la thèse), Institut des Matériaux Jean Rouxel Nantes (Laboratoire associé à la thèse)
Other Authors : Granier Agnès (Directeur de thèse)
Format : Thesis
Language : français
Title statement : Élaboration de couches minces diélectriques d oxydes de titane et de silicium à forte permittivité et indice optique par procédé plasma PECVD basse pression / Stéphane Elisabeth; sous la direction de Agnès Granier ; co-encadrante de thèse Michèle Carette
Published : 2015
Physical Description : 1 vol. (238 p.)
Note de thèse : Thèse de doctorat : Sciences et matériaux Plasmas et couches minces : Nantes : 2015
Availability : Publication autorisée par le jury
Subjects :
Oxyde de titane > Thèses et écrits académiques
Couches diélectriques > Thèses et écrits académiques
Dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma > Thèses et écrits académiques
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