Gravure et traitement par plasma de matériaux organosiliciés SiOC(H) pour des applications en lithographie avancée et comme isolant d'interconnexion en microélectronique

Gravure et traitement par plasma de matériaux organosiliciés SiOC(H) pour des applications en lithographie avancée et comme isolant d'interconnexion en microélectronique

L'objet de cette étude est la gravure par plasma de nouveaux matériaux, SiOC(H). Leurs propriétés ajustables entre organiques et inorganiques leurs donnent de grandes potentialités en microélectronique. Premièrement, l'étude se porte sur des applications en lithographie optique avec de nou...

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Bibliographic Details
Main Author : Eon David (Auteur)
Corporate Authors : Université de Nantes 1962-2021 (Organisme de soutenance), École doctorale sciences et technologies de l'information et des matériaux Nantes (Ecole doctorale associée à la thèse)
Other Authors : Cardinaud Christophe (Directeur de thèse)
Format : Thesis
Language : français
Title statement : Gravure et traitement par plasma de matériaux organosiliciés SiOC(H) pour des applications en lithographie avancée et comme isolant d'interconnexion en microélectronique / David Eon; sous la dir. de Christophe Cardinaud
Published : [S.l.] : [s.n.] , 2004
Physical Description : 241 p.
Note de thèse : Thèse doctorat : Science des matériaux : Nantes : 2004
Availability : Publication autorisée par le jury
Subjects :
Lithographie > Thèses et écrits académiques
Gravure par plasma > Thèses et écrits académiques
Diélectriques > Thèses et écrits académiques
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