Gravure et traitement par plasma de matériaux organosiliciés SiOC(H) pour des applications en lithographie avancée et comme isolant d'interconnexion en microélectronique

Gravure et traitement par plasma de matériaux organosiliciés SiOC(H) pour des applications en lithographie avancée et comme isolant d'interconnexion en microélectronique

L'objet de cette étude est la gravure par plasma de nouveaux matériaux, SiOC(H). Leurs propriétés ajustables entre organiques et inorganiques leurs donnent de grandes potentialités en microélectronique. Premièrement, l'étude se porte sur des applications en lithographie optique avec de nou...

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Auteur principal : Eon David (Auteur)
Collectivités auteurs : Université de Nantes 1962-2021 (Organisme de soutenance), École doctorale sciences et technologies de l'information et des matériaux Nantes (Ecole doctorale associée à la thèse)
Autres auteurs : Cardinaud Christophe (Directeur de thèse)
Format : Thèse ou mémoire
Langue : français
Titre complet : Gravure et traitement par plasma de matériaux organosiliciés SiOC(H) pour des applications en lithographie avancée et comme isolant d'interconnexion en microélectronique / David Eon; sous la dir. de Christophe Cardinaud
Publié : [S.l.] : [s.n.] , 2004
Description matérielle : 241 p.
Note de thèse : Thèse doctorat : Science des matériaux : Nantes : 2004
Disponibilité : Publication autorisée par le jury
Sujets :
Lithographie > Thèses et écrits académiques
Gravure par plasma > Thèses et écrits académiques
Diélectriques > Thèses et écrits académiques
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BU Sciences

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Magasin aérotherme 2004 NANT 2111 Empruntable Disponible
Magasin aérotherme 2004 NANT 2111 Exclu du prêt Disponible