Élaboration par plasma d'hexaméthyldisiloxane de couches minces à faible constante diélectrique pour applications aux interconnexions en CMOS

Élaboration par plasma d'hexaméthyldisiloxane de couches minces à faible constante diélectrique pour applications aux interconnexions en CMOS

L'objet de cette étude est le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) de films minces à faible constante diélectrique pour des applications en technologies CMOS. Les couches minces sont déposées à basse température (<100°C) et basse presssion (2mTorr) sur des substrats de s...

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Auteur principal : Borvon Gaël (Auteur)
Collectivités auteurs : Université de Nantes 1962-2021 (Organisme de soutenance), École doctorale sciences et technologies de l'information et des matériaux Nantes (Ecole doctorale associée à la thèse)
Autres auteurs : Granier Agnès (Directeur de thèse), Goullet Antoine (Directeur de thèse)
Format : Thèse ou mémoire
Langue : français
Titre complet : Élaboration par plasma d'hexaméthyldisiloxane de couches minces à faible constante diélectrique pour applications aux interconnexions en CMOS / Gaël Borvon; sous la dir. de Agnès Granier et Antoine Goullet
Publié : [S.l.] : [s.n.] , 2003
Description matérielle : 265 p.
Note de thèse : Thèse doctorat : Électronique & génie électrique : Nantes : 2003
Disponibilité : Publication autorisée par le jury
Sujets :
Couches minces > Thèses et écrits académiques
Permittivité > Thèses et écrits académiques

BU Sciences

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Magasin aérotherme 03 NANT 2087 Empruntable Disponible
Magasin aérotherme 03 NANT 2087 Exclu du prêt Disponible