NantilusEtude de la toppographie du travail de sortie du silicium et de l'oxyde de silicium : oxydation du silicium sous faible pression d'oxygène
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| Auteur principal : | |
|---|---|
| Format : | Thèse ou mémoire |
| Langue : | français |
| Titre complet : | Etude de la toppographie du travail de sortie du silicium et de l'oxyde de silicium : oxydation du silicium sous faible pression d'oxygène |
| Publié : |
1984 |
| Description matérielle : | 125 p |
| Note de thèse : | Th. : Sci. : Nantes : 1984 ; 3e cycle Physique des solides (Matériaux) |
| Sujets : |
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