Exemplaires: Analyse des plasmas de SF6 et de SF6-O2 utilisés pour la gravure du silicium, des métaux réfractaires et de leurs siliciures

$Analyse des plasmas de SF6 et de SF6-O2 utilisés pour la gravure du silicium, des métaux réfractaires et de leurs siliciures$

Enregistré dans:

Détails bibliographiques
Auteur principal :	Picard Alain
Format :	Thèse ou mémoire
Langue :	français
Titre complet :	Analyse des plasmas de SF6 et de SF6-O2 utilisés pour la gravure du silicium, des métaux réfractaires et de leurs siliciures
Publié :	1984
Description matérielle :	191 p
Note de thèse :	Th. : Sci. : Nantes : 1984 ; 3e cycle Sciences des matériaux
Sujets :	Microélectronique Métaux réfractaires, gravure sèche Métaux réfractaires Siliciures Plasma fluorés SF6 (hexafluorure de soufre) Spectrométrie de masse Ions négatifs

Informations d'exemplaires de BU Sciences
‌	Cote	Prêt	Statut
Magasin aérotherme	84 NANT Picard 2ex	Empruntable	Disponible
Magasin aérotherme	84 NANT Picard 3ex	Exclu du prêt	Disponible