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LEADER |
01247nam a2200349 4500 |
001 |
PPN072522275 |
005 |
20031223093000.0 |
009 |
DYNIX_BUNAN_206463 |
100 |
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|a 19950912d1984 u0frey0103 ba
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101 |
0 |
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|a fre
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102 |
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|
|a Fr
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105 |
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|a m m
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200 |
1 |
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|a Etude des paramètres physico-chimiques affectant la gravure par plasma de la silice dans les microcircuits M.O.S.
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210 |
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|d 1984
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215 |
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|a 218 p
|c ill.
|d 30 cm
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320 |
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|a 46 réf. bibl.
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328 |
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|a Th. : Sci. : Nantes : 1984 ; 3e cycle
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610 |
2 |
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|a Microélectronique
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610 |
2 |
|
|a Circuits intégrés MOS (Métal - Oxyde - Semiconducteur)
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610 |
2 |
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|a Lithographie
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610 |
2 |
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|a Gravure par plasma
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610 |
2 |
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|a Plasmas, chimie
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610 |
2 |
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|a Spectrométrie de masse
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610 |
2 |
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|a Silicium, gravure
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610 |
2 |
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|a CHF3, plasma
|
610 |
2 |
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|a C2F6, plasma
|
700 |
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1 |
|a Launay
|b Patrick
|
801 |
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|a FR
|b DYNIX_BUNAN
|c 19950912
|g AFNOR
|
979 |
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|
|a SCI
|
993 |
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|
|a 1160620925
|b SCI
|c 84 NANT Launay 2ex
|d EM
|e THE12
|f I
|g 12-09-1995
|h 12-09-1995
|i 15-07-2003
|o 02-11-1995
|p 1
|s 84 NANT 3e cycle
|t EM
|u SCTH12
|v i
|
993 |
|
|
|a 1160620918
|b SCI
|c 84 NANT Launay 3ex
|d EM
|e THEMAG
|f I
|g 12-09-1995
|h 11-02-1999
|i 20-08-1998
|s 84 NANT 3e cycle
|t EM
|u SCTHMAG
|v i
|
998 |
|
|
|a 226079
|