Caractérisation par spectrométrie de photoélectrons des étapes technologiques de réalisation du transistor bipolaire à hétérojonction GaAlAs/GaAs et en particulier de la gravure ionique réactive du contact ohmique GeMoW sur GaAs

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Bibliographic Details
Main Author : Campo Alain
Format : Thesis
Language : français
Title statement : Caractérisation par spectrométrie de photoélectrons des étapes technologiques de réalisation du transistor bipolaire à hétérojonction GaAlAs/GaAs et en particulier de la gravure ionique réactive du contact ohmique GeMoW sur GaAs
Published : 1994
Physical Description : 227 f.
Note de thèse : Th. : Sci. : Nantes : 1994 ; 2015
F.D. Sc. des matériaux, Spéc. Microélectronique
Subjects :

BU Sciences

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