Caractérisation par spectrométrie de photoélectrons des étapes technologiques de réalisation du transistor bipolaire à hétérojonction GaAlAs/GaAs et en particulier de la gravure ionique réactive du contact ohmique GeMoW sur GaAs
Enregistré dans:
Auteur principal : | |
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Format : | Thèse ou mémoire |
Langue : | français |
Titre complet : | Caractérisation par spectrométrie de photoélectrons des étapes technologiques de réalisation du transistor bipolaire à hétérojonction GaAlAs/GaAs et en particulier de la gravure ionique réactive du contact ohmique GeMoW sur GaAs |
Publié : |
1994 |
Description matérielle : | 227 f. |
Note de thèse : | Th. : Sci. : Nantes : 1994 ; 2015 F.D. Sc. des matériaux, Spéc. Microélectronique |
Sujets : |
BU Sciences
| Cote | Prêt | Statut |
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Magasin aérotherme | 94 NANT 2015 | Empruntable | Disponible |
Magasin aérotherme | 94 NANT 2015 | Exclu du prêt | Disponible |