GRAVURE IONIQUE REACTIVE DES COUCHES MINCES DE TUNGSTENE ET DE TANTALE DANS UN PLASMA RADIOFREQUENCE DE SF::(6) : ANALYSE DU PLASMA ET DES SURFACES GRAVEES

GRAVURE IONIQUE REACTIVE DES COUCHES MINCES DE TUNGSTENE ET DE TANTALE DANS UN PLASMA RADIOFREQUENCE DE SF::(6) : ANALYSE DU PLASMA ET DES SURFACES GRAVEES

LA PRESENTE ETUDE PORTE SUR LA GRAVURE SECHE DE DIFFERENTS MATERIAUX UTILISES POUR LA MICROELECTRONIQUE. NOUS AVONS ETUDIE L'INTERACTION ENTRE UN PLASMA RF DE SF, A BASSE PRESSION, ET LES COUCHES MINCES DE TANTALE ET DE TUNGSTENE. POUR CELA NOUS AVONS EFFECTUE UNE ANALYSE DU PLASMA DE SF::(6) A...

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Bibliographic Details
Main Author : Briaud Philippe (Auteur)
Other Authors : Turban Guy (Directeur de thèse)
Format : Thesis
Language : français
Title statement : GRAVURE IONIQUE REACTIVE DES COUCHES MINCES DE TUNGSTENE ET DE TANTALE DANS UN PLASMA RADIOFREQUENCE DE SF::(6) : ANALYSE DU PLASMA ET DES SURFACES GRAVEES / PHILIPPE BRIAUD; SOUS LA DIRECTION DE GUY TURBAN
Published : [S.l.] : [s.n.] , 1988
Physical Description : 246 P.
Note de thèse : DOCTORAT D'ETAT : SCIENCES APPLIQUEES : Nantes : 1988
Subjects :
SCIENCES APPLIQUEES : ELECTRONIQUE
FABRICATION MICROELECTRONIQUE/GRAVURE/GRAVURE IONIQUE REACTIVE/COUCHE MINCE/TECHNOLOGIE/CONDITION OPERATOIRE/CONTROLE FABRICATION/ETAT SURFACE/EMISSION ELECTRONIQUE AUGER/SPECTROMETRIE SIMS/CHIMISORPTION/IMPURETE/TANTALE/TUNGSTENE
MICROELECTRONIC FABRICATION/ENGRAVING/REACTIVE ION ETCHING/THIN FILM/TECHNOLOGY/OPERATING CONDITIONS/PROCESSING CONTROL/SURFACE CONDITIONS/AUGER EMISSION/SECONDARY ION MASS SPECTROMETRY/CHEMISORPTION/IMPURITY/TANTALUM/TUNGSTEN

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