GRAVURE DU PHOSPHURE D'INDIUM INP EN PLASMA CH#4/H#2 POUR LES TECHNOLOGIES MICRO-ELECTRONIQUES

GRAVURE DU PHOSPHURE D'INDIUM INP EN PLASMA CH#4/H#2 POUR LES TECHNOLOGIES MICRO-ELECTRONIQUES

L'UTILISATION DE PLASMAS A BASE DE METHANE ET D'HYDROGENE S'EST IMPOSEE DEPUIS QUELQUES ANNEES POUR LES ETAPES DE GRAVURE DES TECHNOLOGIES DE FABRICATION DE COMPOSANTS MICRO ET OPTO-ELECTRONIQUES DE LA FILIERE INP. CE MEMOIRE DE THESE TRAITE DE LA GRAVURE DES MATERIAUX DE LA FILIERE I...

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Auteur principal : Feurprier Yannick (Auteur)
Collectivité auteur : Université de Nantes 1962-2021 (Organisme de soutenance)
Autres auteurs : Cardinaud Christophe (Directeur de thèse)
Format : Thèse ou mémoire
Langue : français
Titre complet : GRAVURE DU PHOSPHURE D'INDIUM INP EN PLASMA CH#4/H#2 POUR LES TECHNOLOGIES MICRO-ELECTRONIQUES / YANNICK FEURPRIER; SOUS LA DIRECTION DE CHRISTOPHE CARDINAUD
Publié : [S.l.] : [s.n.] , 1997
Description matérielle : 250 P.
Note de thèse : Thèse de doctorat : Sciences appliquées : Nantes : 1997
Sujets :
SCIENCES APPLIQUEES : ELECTRONIQUE
FABRICATION MICROELECTRONIQUE/GRAVURE PLASMA/HYDROGENE/METHANE/FX/GRAVURE IONIQUE REACTIVE/COMPOSE III-V/INDIUM PHOSPHORE/COMPOSE BINAIRE/INTERACTION SOLIDE PLASMA/ENDOMMAGEMENT/ANALYSE SURFACE/SPECTROMETRIE PHOTOELECTRON/INP/IN P
MICROELECTRONIC FABRICATION/PLASMA ETCHING/HYDROGEN/NC/METHANE/NK/FX/REACTIVE ION ETCHING/III-V COMPOUND/INDIUM PHOSPHORUS/NC/BINARY COMPOUND/SURFACE PLASMA INTERACTION/DAMAGING/SURFACE ANALYSIS/PHOTOELECTRON SPECTROMETRY
Thèses et écrits académiques
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