Characterization and modeling of a high power impulse magnetron sputtering discharge, application to thin films deposition

Characterization and modeling of a high power impulse magnetron sputtering discharge, application to thin films deposition

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Auteurs principaux : Zgheib Joelle (Auteur), Jouan Pierre-Yves (Directeur de thèse), Rhallabi Ahmed (Directeur de thèse), Besland Marie-Paule (Président du jury de soutenance), Ribière Maxime (Rapporteur de la thèse), Tixier Christelle (Rapporteur de la thèse), Minea Tiberiu (Membre du jury), Poulon Angéline (Membre du jury)
Collectivités auteurs : Université de Nantes 1962-2021 (Organisme de soutenance), École doctorale Matière, Molécules Matériaux et Géosciences Le Mans (Ecole doctorale associée à la thèse), Institut des Matériaux Jean Rouxel Nantes (Laboratoire associé à la thèse)
Format : Thèse ou mémoire
Langue : français
Titre complet : Characterization and modeling of a high power impulse magnetron sputtering discharge, application to thin films deposition / Joelle Zgheib; sous la direction de Pierre-Yves Jouan et de Ahmed Rhallabi
Publié : 2021
Accès en ligne : Accès Nantes Université
Note sur l'URL : Accès au texte intégral
Note de thèse : Thèse de doctorat : Physique : Nantes : 2021
Sujets :
Sondes de Langmuir
Couches minces
HiPIMS
Modèle cinétique
OES
Thèses et écrits académiques

Internet

http://www.theses.fr/2021NANT4071/document