ETUDE DU PROCEDE DE DEPOT DE COUCHES MINCES D'OXYDE DE SILICIUM EN PLASMA HELICON O#2/TEOS

ETUDE DU PROCEDE DE DEPOT DE COUCHES MINCES D'OXYDE DE SILICIUM EN PLASMA HELICON O#2/TEOS

CE MEMOIRE PRESENTE L'ETUDE DU PROCEDE D'ELABORATION DE COUCHES MINCES D'OXYDE DE SILICIUM DEPOSEES A TEMPERATURE AMBIANTE EN PLASMA DE MELANGE OXYGENE/TETRAETHOXYSILANE (TEOS), DANS UN REACTEUR RADIOFREQUENCE HAUTE DENSITE, BASSE PRESSION DE TYPE HELICON. CE REACTEUR FONCTIONNE EN CO...

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Détails bibliographiques
Auteur principal : NICOLAZO FREDERIC (Auteur)
Collectivité auteur : Université de Nantes 1962-2021 (Organisme de soutenance)
Autres auteurs : Granier Agnès (Directeur de thèse)
Format : Thèse ou mémoire
Langue : français
Titre complet : ETUDE DU PROCEDE DE DEPOT DE COUCHES MINCES D'OXYDE DE SILICIUM EN PLASMA HELICON O#2/TEOS / FREDERIC NICOLAZO; SOUS LA DIRECTION DE AGNES GRANIER
Publié : [S.l.] : [s.n.] , 1997
Description matérielle : 247 P.
Note de thèse : Thèse de doctorat : Physique : Nantes : 1997
Sujets :
PHYSIQUE : SCIENCES DES MATERIAUX, RHEOLOGIE
ETUDE EXPERIMENTALE/COUCHE MINCE/CROISSANCE CRISTALLINE EN PHASE VAPEUR/DEPOT PLASMA/HELICON/MATERIAU SEMICONDUCTEUR/SILICIUM OXYDE/COMPOSE BINAIRE/TEMPERATURE AMBIANTE/OXYGENE/SILOXANE ORGANIQUE/ABSORPTION IR/SPECTROMETRIE MASSE/SPECTROMETRIE EMISSION/SIO2/O SI/SILANE(TETRAETHOXY)/8115T/PAC
EXPERIMENTAL STUDY/THIN FILMS/CRYSTAL GROWTH FROM VAPORS/PLASMA DEPOSITION/HELICONS/SEMICONDUCTOR MATERIALS/SILICON OXIDES/NK/BINARY COMPOUNDS/AMBIENT TEMPERATURE/OXYGEN/NC/ORGANIC SILOXANE/INFRARED ABSORPTION/MASS SPECTROSCOPY/EMISSION SPECTROSCOPY

BU Sciences

Informations d'exemplaires de BU Sciences
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Magasin aérotherme 97 NANT 2120 Empruntable Disponible
Magasin aérotherme 97 NANT 2120 Exclu du prêt Disponible