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Modélisation complète de la gravure profonde de silicium par procédé cryogénique à base de plasma SF 6 /O 2 /Ar
La gravure sèche par plasma est considérée comme une des techniques génériques qui a contribué à la miniaturisation des circuits intégrés. Dans cette étude, nous avons développé un simulateur multiéchelle de gravure profonde du silicium par procédé cryogénique. Ce simulateur est composé de quatre mo...
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| Auteurs principaux : | , , , , , , , |
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| Collectivités auteurs : | , , , |
| Format : | Livre |
| Langue : | français |
| Titre complet : | Modélisation complète de la gravure profonde de silicium par procédé cryogénique à base de plasma SF 6 /O 2 /Ar / Yehya Haidar; sous la direction de Ahmed Rhallabi ; co-directeur Fadia Taher ; co-encadrants Arezki Mokrani, Doumit Zaouk |
| Publié : |
Nantes :
Université de Nantes
, 2016 |
| Description matérielle : | 1 vol. (137 p.) |
| Accès en ligne : |
Accès Nantes Université
|
| Note de thèse : | Thèse de doctorat : Matériaux Plasma : Nantes : 2016 Thèse de doctorat : Matériaux Plasma : Université Libanaise : 2016 |
| Disponibilité : | Publication autorisée par le jury |
| Sujets : |