Simulation de procédés de gravure par faisceau ionique assistée chimiquement des matériaux III-V

Simulation de procédés de gravure par faisceau ionique assistée chimiquement des matériaux III-V

Dans le cadre d un contrat RMNT en collaboration avec Elvion Veeco, LPN et Alcaltel OPTO+, nous avons développé un modèle 2D de gravure de GaAs par Ar+/Cl2 en utilisant le procédé CAIBE (Chemically Assisted Ion Beam Etching). Deux types de structures ont été étudiés : des structures mesas ou rubans...

Description complète

Enregistré dans:
Détails bibliographiques
Auteur principal : Elmonser Lassaad (Auteur)
Collectivités auteurs : Université de Nantes 1962-2021 (Organisme de soutenance), Université de Nantes Faculté des sciences et des techniques (Organisme de soutenance), École doctorale sciences et technologies de l'information et des matériaux Nantes (Organisme de soutenance)
Autres auteurs : Landesman Jean-Pierre (Directeur de thèse), Rhallabi Ahmed (Directeur de thèse)
Format : Thèse ou mémoire
Langue : français
Titre complet : Simulation de procédés de gravure par faisceau ionique assistée chimiquement des matériaux III-V / Lassaad Elmonser; sous la direction de Jean-Pierre Landesman et Ahmed Rhallabi
Publié : [S.l.] : [s.n.] , 2006
Description matérielle : 1 vol. (164 p.)
Note de thèse : Thèse doctorat : Électronique : Université de Nantes : 2006
Disponibilité : Publication autorisée par le jury
Sujets :
Optoélectronique > Thèses et écrits académiques
Plaquettes à gravure en semiconducteurs > Thèses et écrits académiques
Simulation par ordinateur > Thèses et écrits académiques
Semiconducteurs > Attaque chimique > Thèses et écrits académiques

BU Sciences

Informations d'exemplaires de BU Sciences
‌ Cote Prêt Statut
Magasin aérotherme 2006 NANT 2090 Empruntable Disponible
Magasin aérotherme 2006 NANT 2090 Exclu du prêt disponible