STRUCTURE ET PROPRIETES DE FILMS MINCES DE NITRURE DE TITANE COMME BARRIERES ANTI-DIFFUSION SUR DES SUBSTRATS DE SILICIUM

STRUCTURE ET PROPRIETES DE FILMS MINCES DE NITRURE DE TITANE COMME BARRIERES ANTI-DIFFUSION SUR DES SUBSTRATS DE SILICIUM

CE TRAVAIL PORTE SUR L'UTILISATION DE FILMS MINCES DE NITRURE DE TITANE COMME BARRIERES ANTI-DIFFUSION SUR DES SUBSTRATS DE SILICIUM. CES FILMS ONT ETE REALISES PAR PULVERISATION DIODE CONTINUE ET NOUS AVONS ETUDIE LES MODIFICATIONS EVENTUELLES DE LEURS PROPRIETES LORS DE RECUITS SOUS VIDE, JUS...

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Détails bibliographiques
Auteur principal : Dari-Bako Idrissa (Auteur)
Collectivité auteur : Université de Nantes 1962-2021 (Organisme de soutenance)
Autres auteurs : Poitevin Jean-Marc (Directeur de thèse)
Format : Thèse ou mémoire
Langue : français
Titre complet : STRUCTURE ET PROPRIETES DE FILMS MINCES DE NITRURE DE TITANE COMME BARRIERES ANTI-DIFFUSION SUR DES SUBSTRATS DE SILICIUM / IDRISSA DARI-BAKO; SOUS LA DIRECTION DE J.-M. POITEVIN
Publié : [S.l.] : [s.n.] , 1995
Description matérielle : 160 P.
Note de thèse : Thèse de doctorat : Sciences appliquées : Nantes : 1995
Sujets :
SCIENCES APPLIQUEES : ELECTRONIQUE
ETUDE EXPERIMENTALE/FABRICATION MICROELECTRONIQUE/CONTACT OHMIQUE/SILICIUM/NC/RECUIT THERMIQUE/REVETEMENT PULVERISATION/COUCHE MINCE/TITANE NITRURE/NC/NA/COMPOSE BINAIRE/TRAVAIL SORTIE/RESISTIVITE ELECTRIQUE/CONTRAINTE/DIODE BARRIERE SCHOTTKY/BARRIERE ANTIDIFFUSION/TIN/N TI/BARRIERE DIFFUSION/CD
EXPERIMENTAL STUDY/MICROELECTRONIC FABRICATION/OHMIC CONTACT/SILICON/NC/THERMAL ANNEALING/SPUTTER COATING/THIN FILM/TITANIUM NITRIDES/NC/NA/BINARY COMPOUND/WORK FUNCTION/ELECTRIC RESISTIVITY/CONSTRAINT/SCHOTTKY BARRIER DIODE/DIFFUSION BARRIER/CD

BU Sciences

Informations d'exemplaires de BU Sciences
‌ Cote Prêt Statut
Magasin aérotherme 95 NANT 2043 Empruntable Disponible
Magasin aérotherme 95 NANT 2043 Exclu du prêt Disponible