Elaboration et caractérisation de matériaux en couches minces pour l'intégration de résistances et condensateurs de fortes valeurs en technologie CMOS

Elaboration et caractérisation de matériaux en couches minces pour l'intégration de résistances et condensateurs de fortes valeurs en technologie CMOS

Cette thèse est consacrée au dépôt de films minces de matériaux à forte permittivité ou forte résistivité pour l intégration en technologie CMOS de capacités ou résistances performantes près des composants actifs. Des films de BST et TiTaO ont été élaborés par pulvérisation magnétron RF de cibles Ba...

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Main Authors : Challali Fatiha (Auteur), Landesman Jean-Pierre (Directeur de thèse), Besland Marie-Paule (Directeur de thèse), Averty Dominique (Directeur de thèse), Charpentier Alain (Directeur de thèse), Maglione Mario (Président du jury de soutenance), Goullet Antoine (Membre du jury), Guilloux-Viry Maryline (Rapporteur de la thèse), Hugon Marie-Christine (Rapporteur de la thèse)
Corporate Authors : Université de Nantes 1962-2021 (Organisme de soutenance), École polytechnique de l'Université de Nantes (Organisme de soutenance), École doctorale Matériaux, Matières, Molécules en Pays de la Loire (3MPL) Le Mans 2008-2021 (Organisme de soutenance)
Format : Thesis
Language : français
Title statement : Elaboration et caractérisation de matériaux en couches minces pour l'intégration de résistances et condensateurs de fortes valeurs en technologie CMOS / Fatiha Challali; sous la direction de Jean-Pierre Landesman ; co-encadrants Marie-Paule Besland, Dominique Averty, Alain Charpentier
Published : Nantes : Université de Nantes , 2010
Online Access : Via Nantes Université network
Online Access note : Accès au texte intégral
Note de thèse : Reproduction de : Thèse de doctorat : Sciences des matériaux, électronique : Nantes : 2010
Subjects :
Magnétrons
Couches minces
MOS complémentaires
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