Applications et métrologie à l'échelle nanométrique : 2 systèmes de mesure, ingénierie quantique et méthodes d'optimisation fiabiliste

"Les nanosciences, les nanotechnologies et les lois de la physique quantique sont source d'innovations de rupture. A partir de systèmes quantiques à deux niveaux, l'ingénierie quantique permet de développer des matériaux et des systèmes de mesure très sensibles et des ordinateurs quan...

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Auteurs principaux : Dahoo Pierre Richard (Auteur), Pougnet Philippe (Auteur), El Hami Abdelkhalak (Auteur)
Format : Livre
Langue : français
Titre complet : Applications et métrologie à l'échelle nanométrique. 2, systèmes de mesure, ingénierie quantique et méthodes d'optimisation fiabiliste / Pierre Richard Dahoo, Philippe Pougnet, Abdelkhalak El Hami
Publié : Londres : ISTE editions , C 2021
Description matérielle : 1 vol. (VIII-224 p.)
Collection : Collection Génie mécanique et mécanique des solides Série Fiabilité des systèmes multiphysiques sous la direction de Abdelkhalak El Hami ; 10
Sujets :
Description
Résumé : "Les nanosciences, les nanotechnologies et les lois de la physique quantique sont source d'innovations de rupture. A partir de systèmes quantiques à deux niveaux, l'ingénierie quantique permet de développer des matériaux et des systèmes de mesure très sensibles et des ordinateurs quantiques de très haute puissance de calcul. Cet ouvrage présente les connaissances de base pour les applications industrielles dans le domaine de l'ingénierie quantique et des nanotechnologies. Il analyse les systèmes optiques pour la mesure à l'échelle nanométrique et les modèles quantiques décrivant l'interaction d'un système à deux niveaux avec son environnement. Il traite également du concept de spin à partir de l'équation de Dirac et explique le fonctionnement des portes quantiques à partir des fondements théoriques et des exemples d'application. La méthode d'optimisation fiabiliste (RBDO) est appliquée pour estimer les propriétés mécaniques des nanotubes de carbone."
Bibliographie : Bibliographie p. [213]-220. Index
ISBN : 978-1-78405-794-7