Élaboration de couches minces diélectriques d oxydes de titane et de silicium à forte permittivité et indice optique par procédé plasma PECVD basse pression
Cette thèse est consacrée à l élaboration de matériaux diélectriques à basse pression (0,4 mbar) et basse température (<100 °C), sur silicium, par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma RF (PECVD) à couplage inductif (ICP) en modes continu, puissance plasma pulsée et injection pulsée d...
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Collectivités auteurs : | , , , , |
Format : | Thèse ou mémoire |
Langue : | français |
Titre complet : | Élaboration de couches minces diélectriques d oxydes de titane et de silicium à forte permittivité et indice optique par procédé plasma PECVD basse pression / Stéphane Elisabeth; sous la direction de Agnès Granier ; co-encadrante de thèse Michèle Carette |
Publié : |
Nantes :
Université de Nantes
, 2015 |
Accès en ligne : |
Accès Nantes Université
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Note de thèse : | Reproduction de : Thèse de doctorat : Sciences et matériaux Plasmas et couches minces : Nantes : 2015 |
Sujets : | |
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Élaboration de couches minces diélectriques d oxydes de titane et de silicium à forte permittivité et indice optique par procédé plasma PECVD basse pression |
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