Aspects de l'émission ionique secondaire induite dans des couches isolantes inorganiques par des ions argon d'une dizaine de MeV

CE TRAVAIL EXPERIMENTAL EST CONSACRE A L'ETUDE DE L'EMISSION IONIQUE SECONDAIRE RESULTANT DE LA PULVERISATION ELECTRONIQUE INDUITE PAR DES IONS ARGON DE QUELQUES MEV DANS DIVERS MATERIAUX ISOLANTS INORGANIQUES. LE CHOIX DE CES MATERIAUX A ESSENTIELLEMENT RESULTE DE LEUR CARACTERE EXEMPLAIR...

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Détails bibliographiques
Auteur principal : Allali Hakim (Auteur)
Collectivité auteur : Université Claude Bernard Lyon 1971-.... (Organisme de soutenance)
Autres auteurs : Thomas Jean-Paul (Directeur de thèse)
Format : Thèse ou mémoire
Langue : français
Titre complet : Aspects de l'émission ionique secondaire induite dans des couches isolantes inorganiques par des ions argon d'une dizaine de MeV / par Allali Hakim; sous la direction de J.-P. Thomas
Publié : [S.l.] : [s.n.] , 1993
Description matérielle : 1 vol. (112 p.)
Note de thèse : Thèse de doctorat : Sciences : Lyon 1 : 1993
Sujets :
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330 |a CE TRAVAIL EXPERIMENTAL EST CONSACRE A L'ETUDE DE L'EMISSION IONIQUE SECONDAIRE RESULTANT DE LA PULVERISATION ELECTRONIQUE INDUITE PAR DES IONS ARGON DE QUELQUES MEV DANS DIVERS MATERIAUX ISOLANTS INORGANIQUES. LE CHOIX DE CES MATERIAUX A ESSENTIELLEMENT RESULTE DE LEUR CARACTERE EXEMPLAIRE DANS LA DESCRIPTION DE CERTAINS ASPECTS FONDAMENTAUX DE L'EMISSION (DEPOT D'ENERGIE ET PRODUCTION-TRANSPORT DES IONS, PROFONDEUR D'ECHAPPEMENT) OU DANS LA PERSPECTIVE D'UNE APPLICATION ANALYTIQUE. EN CE QUI CONCERNE LA PREMIERE CATEGORIE, NOTRE DISPOSITIF DE SPECTROMETRIE PAR TEMPS DE VOL A PERMIS DE METTRE EN EVIDENCE DES PROCESSUS D'EMISSION DIFFERENTS POUR LES IONS NEGATIFS DES SELS ALCALINS, HALOGENURES ET SELS OXYGENES. CES DIFFERENCES S'OBSERVENT DANS L'EMISSION ELECTRONIQUE QUI ACCOMPAGNE L'EMISSION IONIQUE ET DANS LES DISTRIBUTIONS ANGULAIRES RESPECTIVES. ELLES SONT INTERPRETEES A TRAVERS DEUX PROCESSUS DE PRODUCTION DIFFERENTS: CREATION DE DEFAUTS POUR LES HALOGENURES, RADIOLYSE POUR LES SELS OXYGENES. CES DIFFERENCES SONT AUSSI OBSERVEES SUR LA VARIATION DU RENDEMENT D'EMISSION DES IONS CARACTERISTIQUES EN FONCTION DE L'ENERGIE DES IONS PRIMAIRES. AFIN D'OBTENIR DES VALEURS FIABLES DE LA PROFONDEUR D'EMISSION DES IONS SECONDAIRES, ON A PU DISPOSER DE COUCHES ULTRA-MINCES D'OXYDES, EN PARTICULIER SIO#X ET OXYDE DE CHROME, BIEN CARACTERISEES: ON PEUT AINSI FAIRE ETAT DE VALEURS INFERIEURES A 1 NM. DANS LE CAS DE DEPOTS D'AGREGATS DONT ON CONNAIT BIEN LA MORPHOLOGIE, COMME CEUX D'ANTIMOINE, ON PEUT CORRELER LE RENDEMENT D'EMISSION SECONDAIRE AU TAUX DE RECOUVREMENT ET METTRE EN EVIDENCE LA SENSIBILITE DE L'EMISSION A L'INHOMOGENEITE DE LA COUCHE (EFFET DE GRAIN). L'APPLICATION ANALYTIQUE DE LA DETERMINATION DU PHOSPHORE DANS L'OXYDE DE SILICIUM (PREPARE PAR CVD) REND NECESSAIRE LA COMPREHENSION DU ROLE JOUE PAR LES IMPURETES DE SURFACE DANS LA NATURE DES ESPECES POLYATOMIQUES EMISES ET SUR L'INTENSITE DE LEUR EMISSION. DANS CETTE OPTIQUE, DES ETUDES COMPARATIVES ONT ETE MENEES UTILISANT LE SIMS STATIQUE, L'ABLATION LASER ET LA MICROANALYSE NUCLEAIRE. L'ETUDE DU PHENOMENE DE PULVERISATION IONIQUE INDUITE PAR EFFET DE CHAMP, RESPONSABLE D'UNE EMISSION IONIQUE PLUS CONNUE SOUS LE NOM DE DESORPTION SPONTANEE EST PRESENTEE DANS LA PARTIE EXPERIMENTALE PUISQU'ELLE RESULTE ESSENTIELLEMENT DES CARACTERISTIQUES DU SYSTEME D'EXTRACTION. NOUS MONTRONS QUE LE PHENOMENE EST ESSENTIELLEMENT DU AUX MICROPOINTES DES BORDS DE L'ELECTRODE D'EXTRACTION ET QUE LES ADSORBATS INITIALEMENT PRESENTS OU RESULTANT DU VIDE RESIDUEL SONT A L'ORIGINE DES IONS ACCELERES PAR LE POTENTIEL D'EXTRACTION. DE PAR SES ANALOGIES AVEC LE SIMS STATIQUE, CETTE TECHNIQUE SIMPLE A ETE UTILISEE POUR DES INFORMATIONS COMPLEMENTAIRES DANS LES ETUDES PRECEDENTES 
517 | |a ASPECTS OF SECONDARY ION EMISSION INDUCED FROM INSULATING INORGANIC LAYERS WITH HIGH ENERGY (9MEV) HEAVY ION (AR)  |z eng 
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610 1 |a PHYSIQUE : ETAT CONDENSE : PROPRIETES ELECTRIQUES, MAGNETIQUES, OPTIQUES 
610 2 |a ETUDE EXPERIMENTALE/EMISSION IONIQUE/EMISSION SECONDAIRE/FAISCEAU ION/ION LOURD/EMISSION CHAMP/SPECTROMETRIE MASSE/METHODE TEMPS VOL/COUCHE MINCE/IMPURETE/EMISSION ELECTRONIQUE/COUCHE ISOLANTE/SILICIUM OXYDE/NK/CHROME OXYDE/NK/O SI/CR O/7920N/PAC/7970/PAC 
610 2 |a EXPERIMENTAL STUDY/ION EMISSION/SECONDARY EMISSION/ION BEAMS/HEAVY IONS/FIELD EMISSION/MASS SPECTROSCOPY/TIME-OF-FLIGHT METHOD/THIN FILMS/IMPURITIES/ELECTRON EMISSION/INSULATING LAYERS/SILICON OXIDES/NK/CHROMIUM OXIDES/NK 
686 |a 530  |2 TEF 
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