Simulation multi-échelle de la gravure profonde du silicium par procédé Bosch

Simulation multi-échelle de la gravure profonde du silicium par procédé Bosch

Cette étude porte sur le développement d une approche multi-échelle pour la simulation de la gravure profonde du silicium par procédé Bosch. Ce travail a été effectué dans le cadre d un contrat CIFRE entre l Institut des Matériaux Jean Rouxel et STMicroelectronics Tours. Cette approche multi-échelle...

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Main Authors : Pateau Amand (Auteur), Rhallabi Ahmed (Directeur de thèse, Membre du jury), Boufnichel Mohamed (Directeur de thèse, Membre du jury), Roqueta Fabrice (Directeur de thèse, Membre du jury), Talneau Anne (Président du jury de soutenance, Membre du jury), Dollet Alain (Rapporteur de la thèse, Membre du jury), Cardinaud Christophe (Membre du jury)
Corporate Authors : Université de Nantes 1962-2021 (Organisme de soutenance), Université de Nantes Faculté des sciences et des techniques (Organisme de soutenance), École doctorale Matériaux, Matières, Molécules en Pays de la Loire (3MPL) Le Mans 2008-2021 (Ecole doctorale associée à la thèse)
Format : Thesis
Language : français
anglais
Title statement : Simulation multi-échelle de la gravure profonde du silicium par procédé Bosch / Amand Pateau; sous la direction de Ahmed Rhallabi ; co-encadrants Marie-Claude Fernandez, Mohamed Boufnichel, Fabrice Roqueta.
Published : [Lieu de publication inconnu] : [éditeur inconnu] , 2014
Nantes : Université de Nantes
Online Access : Via Nantes Université network
Reproduction de : Reproduction numérique de l'original imprimé datant de 2014
Note de thèse : Thèse de doctorat : Génie des procédés, Plasmas froids : Nantes : 2014
Subjects :
Plasmas froids
Gravure par plasma
Gravure profonde > Silicium > Simulation
Thèses et écrits académiques
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