Gravure de l InP par plasma ICP chloré et HBr/Ar : modélisation multiéchelle et analyse XPS

Gravure de l InP par plasma ICP chloré et HBr/Ar : modélisation multiéchelle et analyse XPS

Dans le cadre de l ANR Blanc INCLINE (Inductively Coupled Plasmas for CMOS compatible etchINg of high performance III-V integrated laser sourceEs), nous avons développé un simulateur de gravure de l InP par plasmas ICP Cl2/Ar/N2 et HBr/Ar. Ce simulateur est basé sur une approche multiéchelle composé...

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Bibliographic Details
Main Authors : Chanson Romain (Auteur), Rhallabi Ahmed (Directeur de thèse)
Corporate Authors : Université de Nantes Faculté des sciences et des techniques (Autre partenaire associé à la thèse), Université de Nantes 1962-2021 (Organisme de soutenance), École doctorale Matériaux, Matières, Molécules en Pays de la Loire (3MPL) Le Mans 2008-2021 (Organisme de soutenance)
Format : Thesis
Language : français
Title statement : Gravure de l InP par plasma ICP chloré et HBr/Ar : modélisation multiéchelle et analyse XPS / Romain Chanson; sous la direction de Ahmed Rhallabi
Published : [S.l.] : [s.n.] , 2012
Online Access : Via Nantes Université network
Note de thèse : Thèse de doctorat : Science des matériaux : Nantes : 2012
Subjects :
Gravure par plasma
Phosphure d'indium
Optoélectronique
CMOS > Composants > Chloré
Thèses et écrits académiques
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