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Dépôt de couches minces par plasma pulsé radiofréquence et basse pression en mélange hexaméthyldisiloxane / oxygène
L'objectif de cette thèse est d'étudier le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD), à basse pression (3mTorr) et basse température (< 100°C), en plasma pulsé (10Hz-1kHz) d'hexaméthyldisiloxane (HMDSO)/ oxygène dans un réacteur hélicon radiofréquence. La cinétique...
| Auteurs principaux : | , , |
|---|---|
| Collectivités auteurs : | , |
| Format : | Thèse ou mémoire |
| Langue : | français |
| Titre complet : | Dépôt de couches minces par plasma pulsé radiofréquence et basse pression en mélange hexaméthyldisiloxane / oxygène / Angélique Bousquet; Agnès Granier, directeur de thèse ; Antoine Goullet, co-directeur |
| Publié : |
[S.l.] :
[s.n.]
, 2005 |
| Description matérielle : | 1 vol. (233 p.) |
| Note de thèse : | Thèse doctorat : Sciences des matériaux. plasmas et couches minces : Nantes : 2005 |
| Disponibilité : | Pu blication autorisée par le jury |
| Sujets : | |
| Documents associés : | Reproduit comme:
Dépôt de couches minces par plasma pulsé radiofréquence et basse pression en mélange hexaméthyldisiloxane / oxygène |
| Particularités de l'exemplaire : | BU Sciences, Ex. 1 : Titre temporairement indisponible à la communication |
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