ETUDE DES PHENOMENES PHYSIQUES ASSOCIES A L'OUVERTURE DES CONTACTS DANS L'OXYDE DE SILICIUM PAR GRAVURE PLASMA
LE PRESENT TRAVAIL EST CONSACRE A L'ETUDE D'UNE IMPORTANTE ETAPE TECHNOLOGIQUE DE LA FABRICATION DES CIRCUITS INTEGRES CMOS ULSI, A SAVOIR : L'OPERATION D'OUVERTURE DES TROUS DE CONTACT. LA GRAVURE DE L'OXYDE DE SILICIUM EST REALISEE DANS UN REACTEUR INDUSTRIEL DE TYPE DIODE...
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Format : | Thèse ou mémoire |
Langue : | français |
Titre complet : | ETUDE DES PHENOMENES PHYSIQUES ASSOCIES A L'OUVERTURE DES CONTACTS DANS L'OXYDE DE SILICIUM PAR GRAVURE PLASMA / CYRIL LE GOFF; SOUS LA DIRECTION DE GUY TURBAN |
Publié : |
[S.l.] :
[s.n.]
, 1998 |
Description matérielle : | 158 P. |
Note de thèse : | Thèse de doctorat : Sciences appliquées : Nantes : 1998 |
Sujets : | |
Particularités de l'exemplaire : | BU Sciences, Ex. 1 : Titre temporairement indisponible à la communication BU Sciences, Ex. 2 : Titre temporairement indisponible à la communication |
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