ETUDE DE LA MODIFICATION DES SURFACES DE SILICIUM ET D'OXYDE DE SILICIUM SOUMISES A DES PLASMAS DE TRIFLUOROMETHANE ET D'OXYGENE

LE BUT DE CETTE ETUDE EST D'ACQUERIR UNE CONNAISSANCE APPROFONDIE DU MECANISME D'INTERACTION ENTRE LES PLASMAS DE CHF::(3) ET D'O::(2) ET LES SURFACES DE SI ET SIO::(2). DEUX TECHNIQUES EXPERIMENTALES ONT ETE UTILISEES : LA SPECTROMETRIE DE MASSE DU GAZ IONISE ET LA SPECTROMETRIE DE P...

Description complète

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Détails bibliographiques
Auteur principal : Rhounna Abdeljalil (Auteur)
Autres auteurs : Turban Guy (Directeur de thèse)
Format : Thèse ou mémoire
Langue : français
Titre complet : ETUDE DE LA MODIFICATION DES SURFACES DE SILICIUM ET D'OXYDE DE SILICIUM SOUMISES A DES PLASMAS DE TRIFLUOROMETHANE ET D'OXYGENE / ABDELJALIL RHOUNNA; SOUS LA DIRECTION DE GUY TURBAN
Publié : [S.l.] : [s.n.] , 1988
Description matérielle : NON PAGINE
Note de thèse : Thèse de 3e cycle : CHIMIE : Nantes : 1988
Sujets :
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517 | |a A STUDY OF THE SURFACE MODIFICATION OF SILICON AND SILICON DIOXIDE TREATED IN TRIFLUOROMETHANE AND OXYGEN PLASMAS  |z eng 
610 1 |a CHIMIE : CHIMIE GENERALE ET PHYSIQUE 
610 2 |a INTERFACE GAZ SOLIDE/GRAVURE PLASMA/SEMICONDUCTEUR/HYDROCARBURE FLUORE/COMPOSE ALIPHATIQUE/COMPOSE SATURE/METHODE PHYSIQUE/SPECTROMETRIE MASSE/SPECTROMETRIE PHOTOELECTRON/RAYON X/STRUCTURE SURFACE/SILICIUM/SILICE/OXYGENE/METHANE(TRIFLUORO) 
610 2 |a GAS SOLID INTERFACE/PLASMA ETCHING/SEMICONDUCTOR MATERIALS/FLUOROCARBON/ALIPHATIC COMPOUND/SATURATED COMPOUND/PHYSICAL METHOD/MASS SPECTROMETRY/PHOTOELECTRON SPECTROMETRY/X RAY/SURFACE STRUCTURE/SILICON/SILICA/OXYGEN 
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