NantilusETUDE DE LA MODIFICATION DES SURFACES DE SILICIUM ET D'OXYDE DE SILICIUM SOUMISES A DES PLASMAS DE TRIFLUOROMETHANE ET D'OXYGENE
LE BUT DE CETTE ETUDE EST D'ACQUERIR UNE CONNAISSANCE APPROFONDIE DU MECANISME D'INTERACTION ENTRE LES PLASMAS DE CHF::(3) ET D'O::(2) ET LES SURFACES DE SI ET SIO::(2). DEUX TECHNIQUES EXPERIMENTALES ONT ETE UTILISEES : LA SPECTROMETRIE DE MASSE DU GAZ IONISE ET LA SPECTROMETRIE DE P...
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| Auteur principal : | |
|---|---|
| Autres auteurs : | |
| Format : | Thèse ou mémoire |
| Langue : | français |
| Titre complet : | ETUDE DE LA MODIFICATION DES SURFACES DE SILICIUM ET D'OXYDE DE SILICIUM SOUMISES A DES PLASMAS DE TRIFLUOROMETHANE ET D'OXYGENE / ABDELJALIL RHOUNNA; SOUS LA DIRECTION DE GUY TURBAN |
| Publié : |
[S.l.] :
[s.n.]
, 1988 |
| Description matérielle : | NON PAGINE |
| Note de thèse : | Thèse de 3e cycle : CHIMIE : Nantes : 1988 |
| Sujets : |
| LEADER | 02221cam a22004091i 4500 | ||
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| 330 | |a LE BUT DE CETTE ETUDE EST D'ACQUERIR UNE CONNAISSANCE APPROFONDIE DU MECANISME D'INTERACTION ENTRE LES PLASMAS DE CHF::(3) ET D'O::(2) ET LES SURFACES DE SI ET SIO::(2). DEUX TECHNIQUES EXPERIMENTALES ONT ETE UTILISEES : LA SPECTROMETRIE DE MASSE DU GAZ IONISE ET LA SPECTROMETRIE DE PHOTOELECTRONS DES SURFACES APRES TRAITEMENT PAR PLASMA | ||
| 517 | | | |a A STUDY OF THE SURFACE MODIFICATION OF SILICON AND SILICON DIOXIDE TREATED IN TRIFLUOROMETHANE AND OXYGEN PLASMAS |z eng | |
| 610 | 1 | |a CHIMIE : CHIMIE GENERALE ET PHYSIQUE | |
| 610 | 2 | |a INTERFACE GAZ SOLIDE/GRAVURE PLASMA/SEMICONDUCTEUR/HYDROCARBURE FLUORE/COMPOSE ALIPHATIQUE/COMPOSE SATURE/METHODE PHYSIQUE/SPECTROMETRIE MASSE/SPECTROMETRIE PHOTOELECTRON/RAYON X/STRUCTURE SURFACE/SILICIUM/SILICE/OXYGENE/METHANE(TRIFLUORO) | |
| 610 | 2 | |a GAS SOLID INTERFACE/PLASMA ETCHING/SEMICONDUCTOR MATERIALS/FLUOROCARBON/ALIPHATIC COMPOUND/SATURATED COMPOUND/PHYSICAL METHOD/MASS SPECTROMETRY/PHOTOELECTRON SPECTROMETRY/X RAY/SURFACE STRUCTURE/SILICON/SILICA/OXYGEN | |
| 686 | |a 001.C.01.I.04 |2 tlt | ||
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